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SiC-MESFET器件的夹断电压
SiC-MESFET器件的夹断电压
作者:
张义门
张志勇
张玉明
王守国
阎军锋
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
碳化硅
夹断电压
界面态
摘要:
考虑空间电荷区杂质的非完全离化、SiC表面的界面态和反向漏电流等因素的影响,给出了较为精确的计算SiC-MESFET器件夹断电压的方法,计算的结果和实验值符合较好.
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内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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(/年)
文献信息
篇名
SiC-MESFET器件的夹断电压
来源期刊
西北大学学报(自然科学版)
学科
工学
关键词
碳化硅
夹断电压
界面态
年,卷(期)
2003,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
26-28
页数
3页
分类号
TN386.3
字数
2053字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-274X.2003.01.008
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张义门
西安电子科技大学微电子研究所
129
835
15.0
21.0
2
张志勇
西北大学电子科学系
98
759
13.0
22.0
3
张玉明
西安电子科技大学微电子研究所
126
777
15.0
20.0
4
王守国
西安电子科技大学微电子研究所
4
30
3.0
4.0
8
阎军锋
西北大学电子科学系
13
290
6.0
13.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
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引证文献
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(0)
二级引证文献
(0)
1987(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
1992(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1994(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1997(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1998(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1999(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2003(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2004(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2006(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2007(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2010(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2011(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
碳化硅
夹断电压
界面态
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
西北大学学报(自然科学版)
主办单位:
西北大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1000-274X
CN:
61-1072/N
开本:
大16开
出版地:
西安市太白北路229号
邮发代号:
52-10
创刊时间:
1913
语种:
chi
出版文献量(篇)
4455
总下载数(次)
8
总被引数(次)
31135
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