热丝化学气相沉积金刚石薄膜空间场的数值分析

• 作者: 季锡林 李建国 胡东平 胡文军
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 物理学
• 关键词: 热丝化学气相沉积 金刚石薄膜 生长工艺 耦合传热
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 162-163
• 页数: 2页
• 分类号: O484.1

摘要

由于热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石薄膜的反应气体利用率较低，生长速率慢，生长不均匀，从而限制了金刚石薄膜的大规模应用。因此，人们从实验和理论方面研究其生长工艺。实验能反映热丝化学气相沉积金刚石薄膜的真实情况，但实验受到许多因素的影响和制约而不能获得较全面信息，数值计算能弥补实验的不足。