直流等离子体-热丝化学气相沉积金刚石薄膜的研究

• 作者: 丁发柱 石玉龙
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 直流等离子体 热丝化学气相沉积 金刚石形核及生长
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2912字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2006.01.001

摘要

通过在传统热丝化学气相沉积装置中引入直流等离子体,设计了直流等离子体-热丝化学气相沉积金刚石薄膜的设备,设备中既包括相互独立的灯丝电压和施加的偏压.通过调节偏压可以控制所形成的等离子体的偏流.在这一改进的系统中研究了金刚石薄膜形核和生长过程,利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分析了金刚石的样品,结果表明,施加偏压不仅能大大促进金刚石的形核密度(1010 cm-2)、提高金刚石薄膜的生长速率,金刚石薄膜的取向也随机取向变为(111)定向生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石玉龙	青岛科技大学材料与环境科学学院	25	315	9.0	17.0
2	丁发柱	青岛科技大学材料与环境科学学院	3	6	1.0	2.0