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摘要:
为了提高锰铜传感器的测压上限,须用薄膜工艺制备无机绝缘三氧化二铝薄膜来作为传感器的绝缘封装层.采用电子束蒸发法,对影响三氧化二铝薄膜的相关工艺如:蒸发原料的纯度、成膜次数进行了研究.最终得出:由99.99%的三氧化二铝原料制备出的薄膜致密性好、缺陷少,其绝缘电阻率和损耗分别可达1012Ω·cm和10-3量级;而采用多次间隙蒸发可明显改善薄膜的附着性和致密性.
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文献信息
篇名 超高压力传感器绝缘封装薄膜的工艺研究
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 电子技术 锰铜传感器 三氧化二铝 绝缘薄膜 电子束蒸发 致密性
年,卷(期) 2004,(12) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 25-27
页数 3页 分类号 TP212
字数 1918字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2004.12.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杜晓松 电子科技大学微固学院 61 434 12.0 16.0
2 杨邦朝 电子科技大学微固学院 253 3422 31.0 49.0
3 滕林 电子科技大学微固学院 16 88 5.0 9.0
4 周鸿仁 电子科技大学微固学院 12 60 5.0 7.0
5 崔红玲 电子科技大学电子工程学院 16 163 5.0 12.0
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锰铜传感器
三氧化二铝
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致密性
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电子元件与材料
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1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
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