离子束反应溅射ZnO薄膜的晶体结构及光学、电学性质研究

• 作者: 刘建 李晓慧
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 离子束反应溅射 晶体结构 光学及电学性质
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 430-433
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2971字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.06.009

摘要

采用离子束反应溅射法在玻璃基片上沉积了一系列ZnO薄膜样品.通过对薄膜样品XRD谱的分析,发现基片温度和溅射氧分压是同时影响ZnO薄膜沿c轴择优取向生长的重要因素.在基片温度350 ℃,氧分压1.3 的溅射条件下,得到了完全沿c轴取向生长的只有(002)晶面的ZnO薄膜.薄膜的吸收光谱测量结果表明,基片温度和氧分压对ZnO薄膜的光学禁带宽度有重要影响.不同氧分压、不同基片温度制备的薄膜电阻率相差很大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘建	内蒙古大学物理系	20	97	6.0	9.0
2	李晓慧	内蒙古大学物理系	1	6	1.0	1.0