VHF-PECVD制备硅薄膜的光发射谱在线监测研究

• 作者: 张丽珠 张晓丹 朱锋 熊绍珍 耿新华 赵颖 高艳涛 魏长春
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 甚高频等离子体增强化学气相沉积 光发射谱 喇曼散射谱
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 230-233
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 1893字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2004.04.008

摘要

用光发射谱(OES)和喇曼散射谱(Raman)研究了VHF-PECVD制备硅薄膜的结构特性.OES测试结果表明:随功率增加,对应各基团峰的强度增大;结合喇曼的测试结果,OES谱得到的结果可以用来定性地表征制备薄膜的晶化程度;纯化器可以降低制备薄膜中的氧含量,Raman测试结果表明相应的晶化率低.