脉冲激光沉积(PLD)机理分析及其应用

• 作者: 叶志清 曾明生 江辉明
• 来源期刊: 江西师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积 等离子体 薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 53-57
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.8
• 字数: 4812字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5862.2005.01.014

摘要

脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广,最有希望的制膜技术.该文阐述了脉冲激光沉积技术的机理、特点,薄膜生长主要包括三个过程:1)激光与物质相互作用产生等离子体;2)等离子体向基片扩散;3)等离子体中粒子在基片上生长薄膜.文章还分析了脉冲沉积过程中各主要沉积参数,如激光能量密度、沉积气压和衬底情况等对薄膜质量的影响,并介绍了其在制备半导体、高温超导、类金刚石、生物陶瓷薄膜等方面的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶志清		75	448	11.0	17.0
3	曾明生		3	64	3.0	3.0
5	江辉明		1	47	1.0	1.0