退火对nc-Si镶嵌复合薄膜结构及发光特性的影响

• 作者: 侯春 刘涌 肖瑛 韩高荣
• 来源期刊: 浙江大学学报(工学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米硅 化学气相沉积 退火 光致发光
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 电子、通信与自动控制技术
• 页码范围: 926-930,1046
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 4184字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2005.07.002

摘要

采用减压化学气相沉积方法,依靠纯N2稀释的SiH4气体的热分解反应,在玻璃表面生长了纳米硅镶嵌的复合薄膜.实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性.结果表明,未退火样品的光致发光特性随沉积温度升高反而减弱.当退火温度＞600℃时,晶化趋势明显;当退火温度＜600℃时,对晶化的影响不显著,但提高退火温度或延长退火时间可以增加光致发光谱(PL)强度.通过HRTEM分析证实了薄膜为纳米硅镶嵌复合的特殊结构.并通过Raman、PL、HRTEM的比较分析,认为在退火前后分别有两种不同的发光机制起主导作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯春	浙江工业大学理学院	8	88	4.0	8.0