电子束蒸发制备平板偏振膜激光损伤特性研究

• 作者: 占美琼 张伟丽 易葵 毕军 黄建兵
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 化学
• 关键词: 薄膜 平板偏振膜 损伤阈值 电子束蒸发
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 837-841
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 1838字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2006.06.026

摘要

采用电子束蒸发沉积技术制备了平板偏振膜.用Lambda900分光光度计测试了其光学性能.在中心波长1053 nm处P偏振光的透过率TP＞98%,S偏振光的透过率TS＜0.5%,消光比TP/TS＞200:1,带宽约为20 nm.用波长1064 nm,脉宽12 ns的脉冲激光进行损伤阈值测试,获得P偏振光的损伤阈值为17.2 J/cm2,S偏振光的损伤阈值为19.6 J/cm2.用Nomarski显微镜对薄膜的损伤形貌进行观察,并用Alpha-500型台阶仪对损伤深度进行测试.结果表明,P偏振光的激光损伤为界面损伤与缺陷损伤,而S偏振光的激光损伤主要是驻波电场引起的界面损伤,界面损伤发生在偏振膜表面第一层与第二层界面处,缺陷损伤发生在偏振膜内部.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
2	黄建兵	中国科学院上海光学精密机械研究所	16	131	6.0	11.0
3	张伟丽	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	97	4.0	9.0
4	占美琼	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	85	5.0	6.0
8	毕军	中国科学院上海光学精密机械研究所	1	3	1.0	1.0