硅基氧化铱薄膜的脉冲激光沉积及其微观结构研究

• 作者: 公衍生 张联盟 沈强 王传彬
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: IrO2薄膜 基片温度 微观结构 脉冲激光沉积技术
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 425-428
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1860字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.05.019

摘要

采用脉冲激光沉积技术,在Si(100)基片上制备了高致密的氧化铱(IrO2)薄膜,研究了不同沉积温度对薄膜结构的影响.利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对制备的IrO2薄膜进行了表征.结果表明:在20Pa氧分压,250℃～500℃范围内,得到的薄膜为多晶的IrO2物相,其晶粒尺寸和粗糙度随着沉积温度的升高而增加;所得到的IrO2薄膜表面粗糙度低,厚度均匀,与基片结合良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张联盟	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	249	2664	24.0	41.0
2	沈强	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	131	858	14.0	24.0
3	王传彬	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	51	285	9.0	15.0