基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术

• 作者: 张冬青 施伟杰 王向朝 王帆
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 焦深 光学对准 投影光刻机 原位检测
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 测量技术
• 页码范围: 85-90
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2938字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2006.01.019

摘要

提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术.该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上,硅片显影后,由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息,根据对准位置信息计算得到视场中各点的焦深.与传统的FEM焦深测试技术相比,该技术具有测量精度高、速度快、成本低、操作简单等优点,在光刻工艺参数优化及光刻设备性能评价等方面有很好的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王向朝	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	170	1628	23.0	35.0
2	王帆	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	20	71	5.0	7.0
6	施伟杰	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	13	70	4.0	7.0
10	张冬青	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	13	71	4.0	7.0