射频反应溅射制备的ZnO薄膜的结构和发光特性

• 作者: 季涛 宋银 朋兴平 杨映虎 王志光 臧航 金运范
• 来源期刊: 中国科学G辑
• 学科: 化学
• 关键词: ZnO薄膜 X射线衍射谱 光致发光谱 衬底温度 射频反应溅射
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 218-222
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 2976字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7275.2007.02.012

摘要

用射频反应溅射在硅(100)衬底上生长了c轴择优取向的ZnO薄膜,用X射线衍射仪、荧光分光光度计和X射线光电子能谱仪对样品进行了表征,分析研究了溅射功率、衬底温度对样品的结构和发光特性的影响.结果表明,溅射功率100W,衬底温度300～400℃时,适合c轴择优取向和应力小的ZnO薄膜的生长.在样品的室温光致发光谱中观察到了380nm的紫外激子峰和峰位在430 nm附近的蓝光带,并对蓝光带的起源进行了初步探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金运范	中国科学院近代物理研究所	38	183	9.0	12.0
2	王志光	中国科学院近代物理研究所	39	183	8.0	11.0
3	宋银	中国科学院近代物理研究所	25	108	6.0	9.0
4	朋兴平	中国科学院近代物理研究所	10	188	7.0	10.0
6	杨映虎	兰州大学物理科学与技术学院	13	137	7.0	11.0
7	臧航	中国科学院近代物理研究所	2	20	2.0	2.0
10	季涛	兰州大学物理科学与技术学院	2	21	2.0	2.0