基于UV-LIGA技术的新型RF MEMS开关

• 作者: 丁桂甫 张永华 蔡炳初 赖宗声
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 射频微机电系统 开关 双稳态电磁驱动 UV-LIGA技术 牺牲层
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术
• 页码范围: 60-64
• 页数: 5页
• 分类号: TN61|TP271.+4
• 字数: 3351字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一种基于UV-LIGA加工技术的双稳态电磁型RF MEMS开关,该结构由于使用了永磁体单元而使得开关在维持"开"或"关"态时不需要功耗,利用牺牲层UV-LIGA技术实现了开关的微制作.非接触式Wyko NT1100光学轮廓仪的测试表明,制备的开关实现了双稳态驱动功能,驱动脉冲电流50 mA,驱动行程17 μm,响应时间20 μs;开关完成一次驱动姿态转换所需要的功耗不到3 μJ.AGILENT 8722ES型S参数网络分析仪的测试表明,开关在12 GHz时的插入损耗为-0.25 dB,隔离度为-30 dB.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赖宗声	华东师范大学信息科学技术学院	136	779	13.0	18.0
2	蔡炳初	上海交通大学微纳科学技术研究院	49	769	15.0	26.0
3	丁桂甫	上海交通大学微纳科学技术研究院	60	503	12.0	19.0
4	张永华	华东师范大学信息科学技术学院	15	58	5.0	7.0