RF反应磁控溅射纳米晶ZnO薄膜的XRD和XPS研究

• 作者: 刘黎明 杨培志
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米晶ZnO薄膜 RF反应磁控溅射 原位退火 X射线衍射 X射线光电能谱
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 897-899
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1|TB383
• 字数: 1356字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2007.09.011

摘要

采用RF反应磁控溅射沉积ZnO薄膜,沉积完成后对薄膜进行氧气氛下的原位退火处理.薄膜的结晶状况和化学成分分别采用XRD和XPS进行分析.结果表明,该薄膜为结晶性能良好的纳米晶薄膜,具有高度的C轴取向性.薄膜的主要成分为ZnO,不存在金属态Zn.采用文中的工艺方法可获得较高质量的纳米晶ZnO薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨培志		21	189	8.0	13.0
2	刘黎明		24	160	7.0	12.0