用于GaN生长的蓝宝石衬底片化学机械抛光工艺研究

• 作者: 赵之雯
• 来源期刊: 大众科技
• 学科: 工学
• 关键词: 蓝宝石 化学机械抛光 纳米硅溶胶
• 年，卷（期）: 2007,（10）
• 所属期刊栏目: 电力与机械科技
• 页码范围: 112-113,125
• 页数: 3页
• 分类号: TP164.2
• 字数: 3282字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1151.2007.10.052

摘要

对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究.系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案,结果表明,采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配合以适当参数进行抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率.能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵之雯		5	19	4.0	4.0