蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究

• 作者: 周圣明 徐军 王银珍
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 蓝宝石 衬底 化学机械抛光
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 页码范围: 441-447
• 页数: 7页
• 分类号: O786
• 字数: 3655字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.039

摘要

介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP工艺,系统地研究CMP工艺过程参数,建立完善的CMP理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐军	中国科学院上海光学精密机械研究所	290	2418	22.0	34.0
2	周圣明	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	298	9.0	16.0
3	王银珍	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	97	3.0	5.0