直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜反射率性质的影响

• 作者: 巴德纯 沈辉 王贺权 闻立时
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 化学
• 关键词: 直流反应磁控溅射 二氧化钛薄膜 太阳电池 反射率
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 55-58
• 页数: 4页
• 分类号: O614.41+1
• 字数: 2009字
• 语种: 中文

摘要

应用直流反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,利用n&k仪对薄膜的反射率进行检测,结果表明TiO2薄膜可以作为太阳电池减反射薄膜应用,并且通过改变工艺条件可以调控薄膜的反射低谷.当总压强为2×10-1Pa、O2流量为15 sccm、靶基距为190 mm、温度为60℃的条件下制备的TiO2薄膜的减反射效果最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯		250	1491	18.0	22.0
2	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
3	沈辉		121	1808	24.0	37.0
4	王贺权		14	52	3.0	7.0