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短沟道SOI BJMOSFET的阈值电压
短沟道SOI BJMOSFET的阈值电压
作者:
张国樑
张燕
曾云
李晓磊
王太宏
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
短沟道
绝缘衬底上硅
双极MOS场效应晶体管
阈值电压
摘要:
提出了一种适用于短沟道SOI BJMOSFET阈值电压特性分析的电荷分享物理模型,详细讨论了短沟道SOI BJMOSFET背界面处于积累、反型以及全耗尽三种状态时的阈值电压,并利用Math-ematica软件进行数值模拟得到阚值电压的特性曲线.通过理论分析和计算机模拟,证明短沟道SOI BJMOSFET阈值电压的可控性很强,更适用于现代ULSI低压低功耗的要求.
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文献信息
篇名
短沟道SOI BJMOSFET的阈值电压
来源期刊
功能材料与器件学报
学科
工学
关键词
短沟道
绝缘衬底上硅
双极MOS场效应晶体管
阈值电压
年,卷(期)
2008,(4)
所属期刊栏目
简报
研究方向
页码范围
831-834
页数
4页
分类号
TN32
字数
1741字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1007-4252.2008.04.018
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王太宏
湖南大学物理与微电子科学学院
38
322
11.0
16.0
2
曾云
湖南大学物理与微电子科学学院
102
899
13.0
27.0
3
张燕
湖南大学物理与微电子科学学院
13
66
4.0
8.0
4
李晓磊
湖南大学物理与微电子科学学院
3
1
1.0
1.0
8
张国樑
湖南大学物理与微电子科学学院
2
1
1.0
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二级引证文献
(0)
1968(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1994(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1995(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1997(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
2000(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2001(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2002(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
2004(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2005(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2008(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
短沟道
绝缘衬底上硅
双极MOS场效应晶体管
阈值电压
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料与器件学报
主办单位:
中科院上海微系统与信息技术研究所
中国材料研究学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1007-4252
CN:
31-1708/TB
开本:
大16开
出版地:
上海市长宁路865号
邮发代号:
4-737
创刊时间:
1995
语种:
chi
出版文献量(篇)
1638
总下载数(次)
2
总被引数(次)
10162
相关基金
湖南省自然科学基金
英文译名:
Natural Science Foundation of Hunan Province
官方网址:
http://jj.hnst.gov.cn/
项目类型:
一般面上项目
学科类型:
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