论文降重
免费查重
Fujifilm导入ArF液浸曝光装置以加强先进光刻胶业务
基本信息来源于合作网站，原文需代理用户跳转至来源网站获取
摘要：
推荐文章
一种光刻胶专用树脂的生产方法及应用
光刻胶
专用树脂
生产工艺
应用
光刻胶级214-磺酰氯的生产方法及应用
光刻胶
214-磺酰氯
生产方法
应用
先进光刻胶材料的研究进展
光刻胶
193 nm光刻
EUV光刻
化学放大光刻胶
分子玻璃
胶液温度对浸胶帘子布附胶量及黏着强度的影响关系
胶液
布氏黏度
温度
附胶量
黏着强度
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献 (0)
共引文献 (0)
参考文献 (0)
节点文献
引证文献 (0)
同被引文献 (0)
二级引证文献 (0)
2008(0)
- 参考文献(0)
- 二级参考文献(0)
- 引证文献(0)
- 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
光刻胶
ARF
FUJIFILM
曝光装置
浸没式光刻
产品样品
工艺产品
材料研究所
涂布
生产工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体信息
主办单位：
中国半导体行业协会分立器件分会
中国电子科技集团公司第五十五研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
CN：
开本：
16开
出版地：
南京市1601信箱43分箱（南京市中山东
邮发代号：
创刊时间：
1990
语种：
chi
出版文献量（篇）
5953
总下载数（次）
11
总被引数（次）
664
期刊文献
相关文献
推荐文献
