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Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构的电迁移
Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构的电迁移
作者:
吴丰顺
吴懿平
奚弘甲
张金松
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SnCu焊料
Ni-Cu层
电迁移
金属间化合物
摘要:
采用Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构,在加载的电流密度为0.4×104 A/cm2的条件下,得到了界面阴极处金属原子的电迁移.数值模拟揭示了其原因是由于凸点互连结构的特殊性,电子流在流经凸点时会发生流向改变进而形成电流聚集,此处的电流密度超过电迁移的门槛值,从而诱发电迁移.运用高对流系数的热传导方法降低了互连焊点的实际温度,在电迁移的扩展阶段显著减小了高温引起的原子热迁移对电迁移的干扰;因此电迁移力是原子迁移的主要驱动力.在电迁移的快速失效阶段,原子的迁移是热迁移和电迁移共同作用的结果:电迁移力驱动阴极处原子的迁移,造成局部区域的快速温升,从而加剧此处原子的热迁移.
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文献信息
篇名
Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构的电迁移
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
SnCu焊料
Ni-Cu层
电迁移
金属间化合物
年,卷(期)
2008,(1)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
174-178
页数
5页
分类号
TB331
字数
4081字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2008.01.033
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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G指数
1
吴懿平
13
122
7.0
10.0
2
吴丰顺
7
79
6.0
7.0
3
张金松
1
17
1.0
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4
奚弘甲
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Ni-Cu层
电迁移
金属间化合物
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研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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