ZnO薄膜紫外光敏特性及晶界势垒的研究

• 作者: 何俊刚 傅刚 刘志宇 王莉 陈环
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 热处理温度 紫外光灵敏度 晶界势垒
• 年，卷（期）: 2009,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 36-38
• 页数: 3页
• 分类号: TM277
• 字数: 1942字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2009.12.011

摘要

以二水合醋酸锌为原料,采用sol-gel法在石英衬底上制备了ZnO薄膜.用AFM观察表面形貌,通过测量真空条件下不同温度热处理后薄膜的I-V特性,拟合计算晶界势垒高度.研究了热处理温度对ZnO薄膜性能的影响.结果表明:经650 ℃热处理制备的ZnO薄膜样品具有较佳性能,结构均匀致密,粒径分布为20～32 nm.在10 V偏压和1.24×10~(-3) W/cm~2光强下,紫外光灵敏度为43.95;无光照条件下晶界势垒高度为0.079 eV.紫外光照使晶界势垒高度下降为0.011 eV,薄膜的紫外光灵敏度与势垒高度的相对变化密切相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅刚	广州大学物理与电子工程学院	53	174	8.0	11.0
2	王莉	广州大学物理与电子工程学院	5	5	1.0	2.0
3	陈环	广州大学物理与电子工程学院	27	89	6.0	8.0
4	刘志宇	广州大学物理与电子工程学院	20	30	4.0	4.0
5	何俊刚	广州大学物理与电子工程学院	2	5	1.0	2.0