PECVD法制备类金刚石薄膜结构和表面形貌分析

• 作者: 刘颖丹 潘德芳 秦国平 苑进社
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石薄膜(DLC) PECVD法 薄膜结构 表面形貌
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试测
• 页码范围: 37-39
• 分类号: TM277
• 字数: 2427字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2010.07.011

摘要

以CH4为碳源,Ar气为载气,采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在硅(100)衬底上制备了类金刚石(DLC)薄膜.利用拉曼(Raman)光谱仪与原子力显微镜(AFM)对其结构与表面形貌进行了表征.结果表明:所制备的DLC薄膜是含sp3和sp2混合键的非晶态碳膜,其表面均匀、光滑,致密;且随着射频功率的提高,薄膜的平均晶粒直径由8.0 nm降为4.2 am,粗糙度由2.2 nm减为0.9 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苑进社	重庆师范大学物理学院	20	32	3.0	4.0
3	潘德芳	重庆师范大学物理学院	2	6	2.0	2.0
9	秦国平	重庆师范大学物理学院	8	40	3.0	6.0
13	刘颖丹	重庆师范大学物理学院	1	2	1.0	1.0