衬底温度对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 刘利新 张洪亮 李健 苏玉荣 谢二庆 谢毅柱 赵海廷 马紫微
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: HfO_2薄膜 衬底温度 晶体结构 直流磁控反应溅射 折射率 光学带隙
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 71-74
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3361字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20102201.0071

摘要

采用直流磁控反应溅射法,分别在室温,200,300,400和500 ℃下制备了HfO_2薄膜.利用X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱(SE)和紫外可见光谱(UV-vis)研究了衬底温度对HfO_2薄膜的晶体结构和光学性能的影响.XRD研究结果显示:不同衬底温度下制备的HfO_2薄膜均为单斜多晶结构;随衬底温度的升高,(-111)面择优生长更加明显,薄膜中晶粒尺寸增大.SE和UV-vis研究结果表明:随衬底温度升高,薄膜折射率增加,光学带隙变小;制备的HfO_2薄膜在250～850 nm范围内有良好的透过性能,透过率在80%以上.