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摘要:
以氧化锌陶瓷靶和金属钴靶为靶材,利用磁控共溅射方法制备钴掺杂氧化锌(Co-ZnO)薄膜.研究了溅射功率对薄膜的结构、光学和电学性能的影响.结果表明:薄膜具有类似于ZnO的六方纤锌矿结构,并沿C轴择优生长;作用在Co靶上的溅射功率对Co-ZnO薄膜的结构和光电性能有一定的影响.在其他条件不变的情况下,当Co靶上的溅射功率设置为10 W时,样品的结晶质量、表面形貌、光透过率、光致发光以及导电性能综合评价最优.
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文献信息
篇名 溅射功率对Co-ZnO薄膜结构和光电性能的影响
来源期刊 半导体光电 学科 物理学
关键词 Co-ZnO薄膜 溅射功率 霍尔迁移率 透射光谱 光致发光谱
年,卷(期) 2011,(1) 所属期刊栏目 材料、结构及工艺
研究方向 页码范围 69-73,113
页数 分类号 O484.4
字数 语种 中文
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1 张剑华 湘南学院物理系 8 18 2.0 4.0
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节点文献
Co-ZnO薄膜
溅射功率
霍尔迁移率
透射光谱
光致发光谱
研究起点
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期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
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