AZ4620光刻胶的喷雾式涂胶工艺

• 作者: 汪明波 邢栗
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 喷雾式涂胶机 AZ4620光刻胶 膜厚 均匀性
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 刻蚀技术与设备
• 页码范围: 43-46
• 分类号: TN305
• 字数: 2519字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.12.011

摘要

对于一些MEMS应用,需要在形貌起伏很大的晶圆表面均匀地涂布光刻胶。喷雾式涂胶工艺满足了这些要求。研究了几种稀释的AZ4620光刻胶溶液的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,分别对裸片及深孔不同尺寸的晶圆进行喷雾式涂胶实验;特别研究了决定喷涂薄膜膜厚和均匀性的光刻胶流量和浓度;实验得到的膜厚和均匀性可以满足图形复杂、有深孔的晶圆。结尾列出了喷雾式涂胶在实际中的一些应用。这些结果证明喷雾式涂胶存在的潜力以及美好前景。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邢栗		5	8	1.0	2.0
2	汪明波		2	7	1.0	2.0