工艺参数对直流溅射沉积CrAlN涂层结构和性能的影响

• 作者: 刘平 刘新宽 李伟 杨丽红 郑康培 陈小红 马凤仓
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: CrAlN涂层 磁控溅射 Ar/N2 气流比 气压 基片温度
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 545-549
• 分类号: TB43
• 字数: 3779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.05.07

摘要

采用直流反应磁控溅射的方式,用AlCr合金靶,在高速钢(M2)上沉积CrAlN涂层.采用扫描电镜、X射线衍射、能谱和纳米压痕仪等分析和测量手段,系统研究了Ar/N2气流比、气压和基片温度等工艺参数对CrAlN涂层结构和性能的影响.研究表明,Ar/N2气流比、气压和基片温度对涂层均有较大的影响,当Ar/N2气流比为1、总气压为0.2Pa、基片温度为300℃时所得涂层性能最好,最高硬度和弹性模量分别为34.8,434.3 GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘平	上海理工大学材料科学与工程学院	212	1078	16.0	22.0
2	陈小红	上海理工大学材料科学与工程学院	123	622	13.0	18.0
3	杨丽红	上海理工大学机械工程学院	61	267	9.0	14.0
4	李伟	上海理工大学材料科学与工程学院	131	544	12.0	19.0
5	马凤仓	上海理工大学材料科学与工程学院	109	494	12.0	18.0
6	刘新宽	上海理工大学材料科学与工程学院	137	518	12.0	18.0
7	郑康培	上海理工大学机械工程学院	4	75	4.0	4.0