原子层沉积系统设计的研究

• 作者: 叶位彬 戴晋福 朱建明 黄光周
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 原子层沉积 前驱体 高k介质薄膜 表面分析
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 57-60
• 分类号: O484.4
• 字数: 2305字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.01.11

摘要

本文介绍作者自行设计的原子层沉积(ALD)实验系统和所沉积薄膜的检测结果.为了研究ALD技术,作者设计了一套试验性的ALD沉积系统.该系统主要由反 应腔、前驱体容器、真空泵、控制系统等部件构成.两个前驱体容器带有加热装置,支持气 体或液体前驱体.前驱体、反应腔的温度,沉积过程中气体的交替,以及各种参数都可以设 定,并由控制系统自动控制.在系统测试中,使用Al2(CH3)3和H2O作为前驱体 ,在含有Si-H键的Si基片上沉积Al2O3高k介质薄膜.使用电子探针分析仪分析薄膜成分 后,证实了所沉积的薄膜是Al2O3.使用XPS分析薄膜表面时只检测到Al,O元素,没有 检测到Si元素,说明Al2O3薄膜是连续的,完整地覆盖了Si表面.使用X射线光电子谱检测元素面分 布的结果显示,Al,O在Si上的分布具有较好均一性,表明Al2O3薄膜的均匀性良好.使 用电子束照射已沉积Al2O3的Si基片时,发现有大量电子累积在薄膜表面,说明所沉积的Al2O3具有良好的介电性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄光周	华南理工大学电子与信息学院	26	189	9.0	13.0
2	叶位彬	华南理工大学电子与信息学院	1	11	1.0	1.0
3	朱建明		3	33	3.0	3.0
4	戴晋福		3	33	3.0	3.0