磁控溅射制备的含He纳米晶铜膜的微结构分析

• 作者: 周冰 周宇璐 张丽然 李悦 邓爱红 陈燕
• 来源期刊: 四川大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 纳米晶铜膜 X射线衍射 慢正电子束分析
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 1371-1374
• 分类号: O571
• 字数: 2820字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2011.06.026

摘要

采用直流磁控溅射法,在不同的He/Ar混合气氛下,制备了不同He含量的铜膜.利用弹性反冲探测(ERD)方法探测了铜膜中氦的含量和深度分布,实验发现引入铜膜中的氦深度分布较均匀；并本文采用X射线衍射(XRD)分析了铜膜中氦的微结构,实验结果表明随着铜膜中氦含量的逐渐增加,对应Cu(111)晶面的峰强也有所增强；最后应用了慢正电子束分析(SPBA)技术测量了不同含氦铜膜的缺陷结构,随着铜膜中氦的增加,S参数会发生相应的变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓爱红	四川大学物理科学与技术学院物理系	26	66	5.0	6.0
2	周宇璐	四川大学物理科学与技术学院物理系	6	7	1.0	2.0
3	陈燕	四川大学物理科学与技术学院物理系	41	180	8.0	12.0
4	李悦	四川大学物理科学与技术学院物理系	31	38	4.0	4.0
5	周冰	四川大学物理科学与技术学院物理系	2	8	1.0	2.0
6	张丽然	四川大学物理科学与技术学院物理系	1	1	1.0	1.0