氧氩比对磁控溅射ZnO薄膜结构及光致发光性能的影响

• 作者: 刘丹 刘涛 李合琴 武大伟
• 来源期刊: 理化检验：物理分册
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 射频反应磁控溅射 光致发光
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 763-766
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

采用射频反应磁控溅射法以不同的氧氩比在玻璃衬底上制备了ZnO薄膜,并对薄膜进行了退火处理;利用X射线衍射仪（XRD）和原子力显微镜（AFM）分别对薄膜的物相组成和表面形貌进行了分析,利用荧光分光光度计对ZnO薄膜的室温光致发光（PL）谱进行了测试。结果表明：当氧氩气体积比为7∶5时,所制备的ZnO薄膜晶粒细小均匀,薄膜结晶质量最好;ZnO薄膜具有紫光、蓝光和绿光三个发光峰,随着氧氩比的增加,蓝光的发射强度增强,而紫光和绿光的发射强度先增强后减弱,当氧氩气体积比为7∶5时紫光和绿光的发射强度最强。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘涛		37	279	10.0	15.0
2	李合琴		71	273	8.0	12.0
3	刘丹		7	53	3.0	7.0
4	武大伟		4	8	2.0	2.0