脉冲激光沉积制备NiO薄膜的研究进展

• 作者: 文亚南 梁齐 王维松 王金生
• 来源期刊: 科技创新导报
• 学科: 工学
• 关键词: NiO 脉冲激光沉积 薄膜
• 年，卷（期）: 2011,（25）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1-1,3
• 分类号: TN3
• 字数: 1491字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-098X.2011.25.001

摘要

NiO作为一种优良的半导体材料,在传感器、催化剂、电致变色器件等领域都有着广泛的应用,纳米NiO又是很有前途的锂离子电池电极材料。脉冲激光沉积作为一种制备高质量NiO薄膜的可行方法。本文综述了脉冲激光沉积制备NiO薄膜的研究进展,包括多晶NiO薄膜和外延NiO薄膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁齐	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	47	197	7.0	10.0
2	文亚南	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	8	21	3.0	4.0
3	王维松	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	3	20	2.0	3.0
4	王金生	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	4	25	3.0	4.0