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InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长
InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长
作者:
周立
张永刚
方祥
李好斯白音
李成
王凯
顾溢
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
化合物半导体
分子束外延
InAlGaAs
X射线衍射
光致发光
摘要:
采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系InAlGaAs材料性质进行了表征.摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着Al组分的增加,样品的光致发光强度、电子浓度和迁移率均有所下降.样品的三族元素组分由光致发光及X射线衍射实验获得,测试结果与设计值吻合,Al组分的实验设计值与测试结果的关系提供了一种实用的精确控制组分的方法.
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光学特性
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CdTe/GaAs
CdTe/Si
热应变
高分辨率多重晶多重反射X射线衍射
分子束外延
内容分析
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文献信息
篇名
InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长
来源期刊
红外与毫米波学报
学科
工学
关键词
化合物半导体
分子束外延
InAlGaAs
X射线衍射
光致发光
年,卷(期)
2012,(5)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
385-388,398
页数
5页
分类号
TN2
字数
语种
中文
DOI
10.3724/SP.J.1010.2012.00385
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传播情况
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化合物半导体
分子束外延
InAlGaAs
X射线衍射
光致发光
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外与毫米波学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海技术物理所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-9014
CN:
31-1577/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市玉田路500号
邮发代号:
4-335
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
2620
总下载数(次)
3
总被引数(次)
28003
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