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玻璃和聚酰亚胺衬底上磁控溅射沉积的ZnO∶Al透明导电膜的结构、电学和光学性能
玻璃和聚酰亚胺衬底上磁控溅射沉积的ZnO∶Al透明导电膜的结构、电学和光学性能
作者:
张笑
曾祥斌
李青
王小锦
黄迪秋
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
薄膜
ZnO∶Al薄膜
射频磁控溅射
衬底材料
聚酰亚胺衬底
摘要:
利用射频磁控溅射方法在玻璃和聚酰亚胺膜(PI)衬底上沉积了氧化铝质量分数为2%的掺铝氧化锌透明导电薄膜(ZnO∶ Al).系统地研究了不同衬底材料对薄膜的结构、电学以及光学性能的影响.分析表明,衬底材料对薄膜的结晶性和电学性能有较大的影响,对可见光透射率却影响不大.X射线衍射(XRD)分析得出所有的ZnO∶A1具有良好的c轴择优取向性,在可见光区(400~800 nm)两种衬底上的薄膜都达到了85%的透射率.玻璃衬底上的薄膜呈现出更强的(002)衍射峰及相对更小的半峰全宽(FWHM),薄膜电阻率达到了2.352×10-4 Ω·cm.电镜分析表明,相对于PI上的ZnO∶ Al膜,玻璃上ZnO∶ Al膜表面有更致密的微观结构及更大的晶粒尺寸.PI衬底上的ZnO∶ Al膜也有相对较好的电、光学性能,其中电阻率达到了6.336×10-4Ω·cm,而且由于PI衬底柔性可弯曲,使得它适于在柔性太阳电池和柔性液晶显示中做窗口层材料及透明导电电极.玻璃上的ZnO∶ Al膜则可应用在平板显示和太阳电池技术中.
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文献信息
篇名
玻璃和聚酰亚胺衬底上磁控溅射沉积的ZnO∶Al透明导电膜的结构、电学和光学性能
来源期刊
激光与光电子学进展
学科
物理学
关键词
薄膜
ZnO∶Al薄膜
射频磁控溅射
衬底材料
聚酰亚胺衬底
年,卷(期)
2012,(4)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
173-178
页数
6页
分类号
O484.4
字数
语种
中文
DOI
10.3788/LOP49.043102
五维指标
作者信息
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1
曾祥斌
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李青
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张笑
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节点文献
薄膜
ZnO∶Al薄膜
射频磁控溅射
衬底材料
聚酰亚胺衬底
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光与光电子学进展
主办单位:
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1006-4125
CN:
31-1690/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号(上海市800-211信箱)
邮发代号:
4-179
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
9127
总下载数(次)
28
总被引数(次)
35767
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