咪唑对钌化学机械抛光的影响

• 作者: 储向峰 叶明富 孙文起 王婕 白林山 董永平
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 钌 咪唑 化学机械抛光 电化学检测
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 25-30
• 分类号: TG175.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2013.03.005

摘要

利用自制的抛光液,研究了在磷酸体系抛光液中咪唑(imidazole,C3H4N2)浓度和pH值对钌的抛光速率的影响.采用电化学分析方法和X射线光电子能谱仪(XPS)分析了缓蚀剂咪唑对腐蚀效果的影响；采用原子力显微镜(AFM)观察钌片表面的微观形貌.试验结果表明:金属钌在未加入咪唑的磷酸体系抛光液中,抛光速率最高为6.2 nm/min,平均粗糙度(Ra)为10.7 nm；而在抛光液中加入咪唑后,钌的抛光速率为3.9 nm/min,平均粗糙度(Ra)降至1.0nm.咪唑的加入,虽然降低了金属钌的抛光速率,但提高了金属钌的表面质量.同时也促进了金属钌表面钝化膜的生成,降低了金属钌的腐蚀电流值,抑制了阴极反应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	储向峰	安徽工业大学化学与化工学院	59	209	6.0	11.0
2	董永平	安徽工业大学化学与化工学院	45	183	7.0	11.0
3	白林山	安徽工业大学化学与化工学院	60	293	10.0	14.0
4	孙文起	安徽工业大学化学与化工学院	15	45	3.0	6.0
5	叶明富	安徽工业大学化学与化工学院	49	104	5.0	8.0
6	王婕	安徽工业大学化学与化工学院	4	18	2.0	4.0