薄膜电路通孔结构光刻胶喷涂工艺

• 作者: 柳龙华 邱颖霞 魏晓旻
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜电路 通孔 光刻胶 喷涂
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 页码范围: 42-45
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 1787字
• 语种: 中文

摘要

采用经稀释的光刻胶在喷胶机上对打孔的基片进行了雾化喷涂试验，在通孔结构表面实现了光刻胶的均匀涂覆。在同一基片上选取了十个通孔，采用扫面电镜对基片表面、通孔边缘及通孔侧壁中部和底部四处的光刻胶厚度进行了测量，得到的平均膜厚分别为10.2、8.8、6.1和5.3μm ，各处厚度均匀性均小于±10%。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱颖霞	中国电子科技集团公司第三十八研究所	17	94	5.0	9.0
2	魏晓旻	中国电子科技集团公司第三十八研究所	5	21	3.0	4.0
3	柳龙华	中国电子科技集团公司第三十八研究所	5	26	3.0	5.0