直流磁控溅射功率对ITO薄膜光学性能的影响

• 作者: 江建勇 耿志挺 郑艺欣
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: ITO薄膜 直流磁控溅射 光学}生能
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: TN304

摘要

本实验的ITO薄膜样品是利用直流磁控溅射技术在玻璃基片上沉积而成的。通过改变溅射功率，研究不同溅射功率对ITO薄膜光学性能的影响。经各实验测试后发现：在实验给定的功率区间内，ITO薄膜的厚度随着溅射功率的增加而增加，其可见光透过率则随之降低。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	耿志挺	清华大学材料学院	25	515	10.0	22.0
2	江建勇	清华大学材料学院	2	1	1.0	1.0
3	郑艺欣	清华大学材料学院	1	0	0.0	0.0