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摘要:
通过自洽求解泊松和薛定谔方程,计算了GaAs,InAs和InGaAsMOSFET的电容电压(CV)特性,并与Si MOSFET的CV特性以及GaAs MOSFET的CV测量结果做了比较.研究结果表明,对于电子有效质量较轻的InGaAs半导体,量子效应非常明显,反型电容显著降低.研究结果还表明,随着栅介质有效厚度的减小和沟道掺杂浓度的增加,量子效应更加突出,反型电容进一步减小.
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文献信息
篇名 InGaAs MOSFET的电容电压特性
来源期刊 微电子学 学科 工学
关键词 InGaAs MOSFET 电容电压特性 量子效应
年,卷(期) 2015,(1) 所属期刊栏目 半导体器件与工艺
研究方向 页码范围 140-144
页数 分类号 TN306
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈军 复旦大学微电子学系专用集成电路与系统国家重点实验室 21 83 5.0 8.0
2 黄大鸣 复旦大学微电子学系专用集成电路与系统国家重点实验室 7 15 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
InGaAs
MOSFET
电容电压特性
量子效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微电子学
双月刊
1004-3365
50-1090/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号24所
1971
chi
出版文献量(篇)
3955
总下载数(次)
20
总被引数(次)
21140
论文1v1指导