光刻胶发展概述

• 作者: 赵成阳 魏杰
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米压印 紫外光刻 光刻胶
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 42-49
• 页数: 8页
• 分类号: TQ31
• 字数: 6362字
• 语种: 中文

摘要

网络信息时代,各种电子设备出现在我们的生活当中,随着科学技术和工艺的不断进步,电子设备变得越来越智能化和微型化,在满足多功能的同时也要满足便携性.紫外光刻和纳米压印技术作为生产微型电路的两大主要方式,具有高分辨率、低成本和高效率等优点,受到大家的高度关注.而这两大技术中的一个关键组成部分就是光刻胶(抗蚀剂),本文将介绍光刻胶的基本性能要求、最新应用领域、面临的问题及解决方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏杰	北京化工大学信息记录材料实验室	84	506	12.0	19.0
2	赵成阳	北京化工大学信息记录材料实验室	1	10	1.0	1.0