多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO2复合装饰薄膜的研究

• 作者: 史继富 朱元义 朱常锋 朱文 邓佩珊
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 磁控溅射 氮化钛 氧化硅
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 45-47
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2015.01.11

摘要

本文结合多弧离子镀和磁控溅射两种镀膜方法的优点,制备了TiN/SiO2复合薄膜.通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响.另外,可以通过控制溅射SiO2的时间实现对膜层色度的控制.在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30 min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1h,膜层为玫瑰红色.采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史继富	中国科学院广州能源研究所	8	163	5.0	8.0
2	朱元义		2	5	2.0	2.0
4	朱常锋		2	5	2.0	2.0
7	邓佩珊		1	3	1.0	1.0
8	朱文		1	3	1.0	1.0