直流和射频反应溅射CoTiO2薄膜研究

• 作者: 任海良 王月亭 范虹 许佳玲 贾利云
• 来源期刊: 河北建筑工程学院学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁性薄膜 反应溅射 射频溅射
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 页码范围: 109-112
• 页数: 4页
• 分类号: O482.5|O484.5
• 字数: 2540字
• 语种: 中文

摘要

通过直流对靶反应溅射和射频反应溅射工艺制备了系列磁性金属 Co掺杂 TiO2薄膜样品。通过原子力显微镜和磁力显微镜研究掺杂样品的结构，利用振动样品磁强计研究系列样品的磁性能，对比不同反应溅射方法制备薄膜的性质和结构。经研究发现，射频溅射法制备的样品表面致密程度优于直流溅射法，薄膜表面十分光滑，结构致密，饱和磁化强度略强，薄膜磁性的方向各向异性明显。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王月亭		39	54	4.0	5.0
2	范虹		45	102	6.0	8.0
3	许佳玲		13	6	1.0	1.0
4	贾利云		19	10	2.0	2.0
5	任海良		4	0	0.0	0.0