退火时间对AZO薄膜结构及光学性质的影响

• 作者: 侯海虹 刘璐 张涛 王斌
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 AZO薄膜 磁控溅射 微观结构 表面形貌 紫外-可见透射
• 年，卷（期）: 2015,（z1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 423-428
• 页数: 6页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201535.s131001

摘要

采用直流磁控溅射方法,以K9玻璃为衬底制备掺铝氧化锌(ZnO:Al,AZO)薄膜.在300℃真空条件下对样品进行退火处理,研究不同退火时间对薄膜内部微观结构、表面形貌及光学特性的影响.结果表明,最佳退火时间为2h,此条件下的AZO薄膜具有较强的(002)衍射峰,晶粒尺寸为17.2 nm,表面结构平整致密,紫外-可见波段的平均透射率为93.47％,光学带隙为3.41 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张涛		17	75	5.0	8.0
2	王斌		12	19	3.0	4.0
3	侯海虹		12	63	6.0	7.0
4	刘璐		2	1	1.0	1.0