涂胶显影技术改进对光刻工艺的影响

• 作者: 侯宗林 冯泉 周明祥
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 涂胶显影 光刻工艺 工艺改进
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 19-24
• 页数: 6页
• 分类号: TN307
• 字数: 4303字
• 语种: 中文

摘要

影响光刻工艺的因素有很多,既有光刻机的因素,又有涂胶显影技术因素,而通过改造光刻机来提高光刻工艺,往往价格非常高昂;所以改进涂胶显影技术就成为了提高光刻工艺的一种低廉而有效的手段.介绍了对涂胶显影技术改进,且分析了其对光刻工艺的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯泉		1	3	1.0	1.0
2	周明祥		1	3	1.0	1.0
3	侯宗林		1	3	1.0	1.0