低温磁控溅射制备AZO薄膜及绒面研究

• 作者: 姚婷婷 张宽翔 彭寿 徐根保 曹欣 金克武
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 直流射频耦合磁控溅射 AZO薄膜 工作压强 绒面
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 818-823
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝(AZO,2％ Al2O3,质量分数)陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5％的HC1溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜的晶相结构、表面形貌、光电性能以及后期制绒的影响.研究表明,直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO薄膜,且随着工作压强的减小,致密性增强,光电性能改善,后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构.在工作压强0.5 Pa下,低温制备的AZO薄膜电阻率达到3.55×10-4 Ω·cm,薄膜可见光透过达到88.36％,刻蚀后电阻率为4.19×10-4 Ω·cm,可见光透过率89.59％,雾度达24.7％.