蓝宝石化学机械抛光专利技术分析

• 作者: 刘洋 刘腾达 李春雨 高玉江
• 来源期刊: 现代制造技术与装备
• 关键词: 蓝宝石 化学机械抛光 CMP 专利
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺与装备
• 页码范围: 163-164
• 页数: 2页
• 字数: 2440字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-5587.2017.02.087

摘要

本文首先对蓝宝石化学机械抛光专利申请状况进行概述,然后重点从蓝宝石化学机械抛光装置结构、抛光垫、修整器、CMP停止、抛光液、蓝宝石应用及加工工艺等方面,分析蓝宝石CMP专利技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘洋		22	411	8.0	20.0
2	刘腾达		7	7	2.0	2.0
3	高玉江		6	7	2.0	2.0
4	李春雨		4	2	1.0	1.0