高气压对MPCVD沉积金刚石薄膜的影响

• 作者: 刘繁 周程 孙祁 梁天 汪建华 熊刚 白傲 翁俊
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 工学
• 关键词: 微波等离子体 化学气相沉积 金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 知识与进展
• 页码范围: 54-59
• 页数: 6页
• 分类号: TB383|O484
• 字数: 4363字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2018.01.010

摘要

本研究在10 kW微波等离子体CVD装置中进行,以仿真模拟为辅助理论依据研究了在一定的高功率环境下,气压对金刚石薄膜沉积质量的影响.利用SEM表征对金刚石表面形貌变化进行分析,利用Raman表征结果分析了不同气压环境下金刚石薄膜的结晶质量及半高宽的变化情况.研究结果表明,气压对电子密度影响很大,进而影响金刚石沉积薄膜的表面形貌.在5 kW微波功率下,17 kPa为最优沉积气压,沉积形貌相对最好,半高宽最小.当气压低于17 kPa时,结晶质量随气压增大而增大;当超过17 kPa时,结晶质量不增反降.