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摘要:
采用反应电子束蒸发技术在不同氧分压下制备了HfO2薄膜,并采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、椭圆偏振仪、X射线光电子能谱仪、1064 nm弱吸收测试仪、1064 nm激光1-on-1损伤测试系统等,对HfO2薄膜的结构、光学性能、化学组分、吸收性能、抗激光损伤特性和损伤形貌等进行了表征和分析.当沉积温度为200℃时,所制备的HfO2薄膜为单斜多晶结构,晶粒尺寸约为10 nm.随着氧分压升高,薄膜的氧化程度随之增大,由化学计量比缺陷主导的薄膜1064 nm弱吸收系数变小,同时薄膜结构变得疏松,折射率随之降低.深入研究后发现,在采用反应电子束蒸发技术制备HfO2薄膜时,提高氧分压有助于抑制膜内纳米吸收缺陷和基底亚表面裂纹,提高HfO2薄膜抗1064 nm激光损伤阈值,对制备出基于HfO2薄膜的高性能光学元器件具有重要的参考价值.
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文献信息
篇名 反应电子束蒸发HfO2薄膜的结构、光学、化学和抗激光损伤特性
来源期刊 中国激光 学科 物理学
关键词 薄膜 反应蒸发 氧分压 抗激光损伤特性
年,卷(期) 2020,(4) 所属期刊栏目 材料与薄膜
研究方向 页码范围 162-168
页数 7页 分类号 O484.4
字数 语种 中文
DOI 10.3788/CJL202047.0403002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 齐红基 中国科学院上海光学精密机械研究所 40 299 11.0 16.0
2 张伟丽 中国科学院上海光学精密机械研究所 9 97 4.0 9.0
3 朱瑞 中国科学院上海光学精密机械研究所 3 35 2.0 3.0
4 余振 中国科学院上海光学精密机械研究所 1 0 0.0 0.0
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