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薄膜科学与技术期刊
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薄膜科学与技术1995年出版文献
出版文献量(篇)
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薄膜科学与技术
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主办单位:
南京电子器件研究所
ISSN:
CN:
出版周期:
双月刊
邮编:
210016
地址:
南京1601信箱43分箱
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1995年
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1994年
1993年
1992年
1991年
1990年
目录
1.
短波段光学薄膜
作者:
卢春光 李懋廉
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
1-12
摘要:
本文对真空紫外-软X光短波段区域的多种极为重要的光学元件如高反射膜镜、光谱色散器件和光谱滤光片等作了较全面地介绍。除较详细的介绍了他们的制备技术外,对于他们光谱透射与反射性能的测量方法与结果...
2.
甲硅烷热CVD制备非晶硅薄膜的生长理论分析
作者:
王宇 赵宇
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
13-19
摘要:
本文将有关流体力学与分子传质理论及化学反应动力结合起来,对于反应室为单面加热,温度场可调节的热CVD系统进行了边界层理论分析,得到了流体的速度、温度及浓度分布。从硅烷的气相分解及有关基团的表...
3.
亚微米硅外延生长特性研究
作者:
王向武 赵仲镛
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
20-24
摘要:
本文利用附面层模型,研究了亚性米Si外延生长中,生长速率随时间的变化规律,分析不同不的硅源及不同的生长条件对其的影响。
4.
SrS:Ce蓝色薄膜电致发光
作者:
蔡昆 陈建荣
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
25-31
摘要:
用H2还原法制备了SrS:Ce蓝色发光材料,研究了它的光谱特性,并用不同掺杂浓度比较了H2还原法和CS2还原法,得到了掺杂的浓度范围,研究了H2气氛下处理温度对器件发光的影响。制得了最高亮度...
5.
a—Si/Mo多层膜的制备及其结构研究
作者:
余萍 刘焕林
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
32-38
摘要:
本文报导了利用射频溅射技术成功地获得具有一维周期结构的a-Si/Mo多层膜。分析讨论了可控厚度多层膜的生长条件;利用X-ray衍射、SIMS、SEM、Raman等分析手段,对多层膜进行了结构...
6.
一类新型的薄膜多晶硅材料与器件的制备方法及其研究现状
作者:
于振瑞 耿新华
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
39-44
摘要:
本文介绍一类新型的薄膜多晶硅材料及器件的制备方法-后续退火方法并对其研究现状进行评述。对制备过程中初始材料的沉积条件,后续退火条件、以及后氢化处理等诸多环节对薄膜多晶硅材料的性能的影响进行了...
7.
半导体薄膜材料物理与工艺的研究进展
作者:
彭英才
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
45-50
摘要:
半导体薄膜材料是发展微电子技术的先导条件和制备微电子器件的物质基础,本文提出了五个重要转变,并以此为主线着重讨论和分析了半导体薄膜材料物理与工艺的发展过程、规律与特点。
8.
SiO2—Al2O3复合氧化物薄膜的溶胶—凝胶法制备研究
作者:
李澄 黄明珠
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
51-55
摘要:
以TEOS和水合硝酸铝为原料用溶胶-凝胶法制备复合溶胶,对制备条件进行了研究,并用上述溶胶在不锈钢基体上制备了SiO2-Al2O3复合氧化物薄膜。结果表明,该薄膜在适当组成时具有良好的完整性...
9.
溶胶—凝胶法制备Fe2O3薄膜
作者:
蔡胜有 郑茂盛
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
56-60
摘要:
以三氯化铁与叔丁醇的反应产物为先驱物,用溶胶-凝胶法制备了透明均匀的Fe2O3薄膜。利用FTIR、XRD、紫外-可见光谱分别对先驱物、凝胶和薄膜进行了分析。结果表明,采用上述先驱物通过溶胶-...
10.
四靶双离子束溅射仪制备软X光衍射色散元件
作者:
崔明启 袁利祥
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
61-66
摘要:
用四靶双离子束溅射仪一体化制备软X光衍射色散元件,宽束平行离子源刻蚀光栅,宽束聚焦离子源镀制软X光多层膜,经SEM、TEM、FC数字化图像处理和效率测试等测试手段分析,结果表明所制备器件具有...
11.
微型心音听诊器薄膜混合电路版图的设计研究
作者:
章秀淦
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
67-72
摘要:
本文阐述了用计算机(IBM-PC机)对微型心音听诊器薄膜混合电路版图进行辅助设计的方法,介绍了电极,电容器,电阻器图形的绘制原理和特征,以及图形的删除、移动、存贮和打印的技巧。
12.
金刚石膜热学性质研究
作者:
张纪法 王春蕾
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
73-76
摘要:
本文采用电子增强化学气相沉积(EACVD)方法,以甲烷和氢气的混合气体为原料制备金刚石膜,并结合拉曼光谱、扫描电子显微镜、顺磁共振谱等测试手段及光热偏转方法对影响金刚石膜热导率的因素作了实验...
13.
溶胶—凝胶沉积PbTiO3薄膜成分和结构的XPS分析
作者:
卢朝靖 王典芬
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
77-83
摘要:
对通过Sol-gel工艺制备的PbTiO3薄膜在Ar^+溅射前后作了XPS全扫描和窄扫描测量,结果表明,除了薄膜原始表面有化学吸附氧和污染碳外,薄膜中没有残余的单质碳或其他杂质元素存在,薄膜...
14.
热处理引进Au/NiCr薄膜系统表面状态变化的SEM/SAM研究
作者:
杨得全 蒋能
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年1期
页码: 
84-89
摘要:
采用扫描电子显微镜(SEM)和扫描俄歇微探针(SAM)技术,对氧化铝基底上用磁控溅射法沉积的Au/NiCr薄膜系统分别经350℃,20min真空和大气环境下热处理后样品表面状态的变化进行了研...
15.
热灯丝辅助射频等离子体CVD法生长立方氮化硼薄膜的研究
作者:
廖克俊 王宏
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
91-96
摘要:
16.
在真空蒸发淀积a—Si及其化合物薄膜中离子轰击的作用
作者:
Brod.,DE 张仕国
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
97-103
摘要:
17.
射频磁控溅射CoCr/Ti薄膜的结构,磁性研究
作者:
阎明朗 陈子瑜
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
104-109
摘要:
18.
PZT铁电薄膜与衬底的界面反应的研究
作者:
朱永法 阎培渝
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
110-114
摘要:
19.
阳极真空弧沉积技术研究
作者:
宋世战 王瑞光
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
115-119
摘要:
20.
电化学沉积—热解烧制氧化物薄膜
作者:
朱日彰 路新瀛
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
120-127
摘要:
21.
离子束辅助淀积钴硅化合物薄膜的结构研究
作者:
叶小燕 陶琨
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
128-134
摘要:
22.
类金刚石薄膜的制备及其力学性能
作者:
张贵锋 郑修麟
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
135-140
摘要:
23.
用热丝法生长大面积高质量金刚石膜
作者:
庞国锋 石岩
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
141-146
摘要:
24.
ICB技术生长GaAs/Si的某些特性
作者:
余怀之 冯德伸
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
147-152
摘要:
25.
高频溅射ZnO:Al透明导电薄膜的研究
作者:
张志林 赵伟明
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
153-157
摘要:
26.
铁基材料上动态离子束混合Ta膜的微观分析
作者:
汪德志 黄宁康
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
158-162
摘要:
27.
离子束刻蚀PZT薄膜图形
作者:
徐梅娣 郭懋端
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年2期
页码: 
163-166
摘要:
28.
超短光脉冲到电脉冲转换的薄膜
作者:
吴全德
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年3期
页码: 
167-171
摘要:
29.
纳米信息存储薄膜研究的进展
作者:
薛增泉
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年3期
页码: 
194-200
摘要:
本文讨论了微电子器件的物理极限,评述了纳米信息存储技术的进展。
30.
光学薄膜成膜技术与光学防伪膜的进展
作者:
林永昌
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1995年3期
页码: 
227-231
摘要:
共
43
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薄膜科学与技术基本信息
刊名
薄膜科学与技术
主编
曾用名
主办单位
南京电子器件研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
ISSN
CN
邮编
210016
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薄膜科学与技术评价信息
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