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电子工业专用设备期刊
出版文献量（篇）
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10002

电子工业专用设备

Equipment for Electronic Products Manufacturing

影响因子 0.2109
本刊为国内外公开发行的技术性刊物，以报道半导体设备及半导体产业链技术与材料为主要方向，以“公布新的科技成就，传播科技信息，交流学术思想，促进科技成果的商品化、产业化，为建设社会主义精神文明与物质文明服务”为本刊的为刊方针。发挥传媒优势，全方位服务于微电子行业的广大科技工作者。
主办单位：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
期刊荣誉：
2001~2002年度标准化规范化部级奖  获2003~2004年度出版质量部级奖 
ISSN：
1004-4507
CN：
62-1077/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
100029
地址：
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
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10002
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  • 1. 微电子封装产业现状与趋势
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  1-6
    摘要：
  • 2. CMP的最新动态
    作者： 翁寿松
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  7-9
    摘要： 介绍了当前CMP的最新动态,包括CMP设备市场、电化学机械抛光、新型φ300mm晶圆CMP设备和阻挡层研磨版等.
  • 3. MEMS与智能化微系统
    作者： 欧毅 陳大鹏
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  10-14
    摘要： 智能化微系统是MEMS的下一步的发展方向,介绍了几种构成智能微系统的集成方式,分析了微系统在应用、研究中存在的问题.
  • 4. 悬臂梁微尖端器件的制备与应用研究进展
    作者： 叶甜春 杨清华 欧毅 焦斌斌 董立军 陈大鹏
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  15-19
    摘要： 随着扫描隧道显微镜(SPM)家族的成熟,悬臂梁微尖端MEMS器件的广泛应用前景也逐渐清晰.对悬臂梁微尖端MEMS器件的种类、微尖端制作方法以及现今的研究应用方向进行了论述,最后指出了悬臂梁微...
  • 5. 0.1μm SOI槽栅CMOS特性仿真
    作者： 孙宝刚 邵红旭 韩郑生
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  20-24
    摘要： 基于SOI技术对器件特性的良好改善和槽栅MOS器件在深亚微米领域抑制短沟道效应和抗热载流子效应方面的显著优势,对SOI槽栅CMOS器件在0.1 μm尺寸下的电学特性进行了模拟仿真,仿真结果表...
  • 6. 微悬臂梁结构传感器与信号读出系统的集成
    作者： 叶甜春 王玮冰 陈大鹏
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  25-27,62
    摘要： 微悬臂梁传感器是一种利用体硅加工技术和表面加工技术制备而成的一种基本微传感器类型,由微悬臂梁结构可以发展改进得到对于多种敏感物质响应的传感器件.同样,根据传感器原理,输出信号形式的不同,可以...
  • 7. 用SiH2Cl2沉积MEMS中的多晶硅薄膜研究
    作者： 叶甜春 廖勇明 董立军 陈大鹏 韩敬东
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  28-30
    摘要： 用SiH2Cl2在3种温度下进行了多晶硅薄膜的沉积,根据膜厚计算出了沉积速率,用SEM、XRD和薄膜应力测试仪对薄膜进行测试分析.证明用SiH2Cl2在950℃时可以快速沉积用于MEMS的多...
  • 8. 国际要闻
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  31-33
    摘要：
  • 9. 国内要闻
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  33-38
    摘要：
  • 10. 市场要闻
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  38-43
    摘要：
  • 11. 用于片式电子元件图像分析的LED光源研制
    作者： 宋福民 廉成 柏长冰 蔡春迎
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  44-48
    摘要： 能够获得高质量、高对比度图像的光源,对于片式电子元件的图像分析至关重要.论述的LED组合光源充分考虑了工业实际照明中的影响因素,针对片式电子元件的不同结构,利用ZEMAX光学设计软件建立模型...
  • 12. 四温控点监控器在TM-240塑封压机上的应用
    作者： 张塍
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  49-52
    摘要： 多功能芯片ADT14既是一种输出逻辑电平控制信号的多点温度监控器,又是一种输出模拟电压信号的温度传感器,可广泛应用于各种嵌入控制系统中.介绍了ADT14的特点和在TM-240压机上的应用.
  • 13. 无铅钎料对不锈钢的腐蚀性研究
    作者： 李忠锁 胡强 黄安国
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  53-57
    摘要： 相对于传统的Sn-Pb合金,无铅钎料在高温下对不锈钢的腐蚀性明显加强,从而造成波峰焊接设备的损坏.通过试验的方式,在450℃条件下将不锈钢材料、表面特殊氮化处理不锈钢、钛合金和铸铁浸入液态无...
  • 14. "量体裁衣"合理配置SMT生产线
    作者： 鲜飞
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  58-62
    摘要： 对目前广泛应用于大规模电子组装生产上的SMT设备选择、组线设计等问题作了实用性论述,希望对企业选择SMT设备有一定的帮助.
  • 15. 再流焊技术的新发展
    作者： 何鹏 史建卫 袁和平 钱乙余
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  63-67
    摘要： 主要针对SMT技术发生的巨大变化,对再流焊技术未来发展进行了简单的阐述.
  • 16. 稀土金属真空提纯炉的研制
    作者： 杨润 赵秦延
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  68-70
    摘要： 介绍了一种用于稀土金属提纯的单晶炉,根据区熔法提纯单晶的特殊工艺要求,分析了其主要结构及特点.该设备也适用于多种激光晶体的生长和激光晶体的真空退火.
  • 17. TDL-Ta60型单晶炉的研制
    作者： 王庆 王建春 董淑梅 高利强
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  71-74
    摘要： 介绍了TDL-Ta60型单晶炉的设计思路及工作原理,结合晶体生长的特殊工艺要求,分析了其主要结构及特点.
  • 18. 影像CMOS的"威力"OmniVision的自豪CMOS豪威科技采访录
    作者： 陳杏
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  75,78
    摘要：
  • 19. Alcatel Vacuum Technology A Recognized Leader in Deep Plasma Etching
    作者： 阿尔卡特真空技术(上海)有限公司
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年1期
    页码:  76-78
    摘要：
  • 20. 无掩模光刻技术的最新进展
    作者： 莫大康
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  1-2
    摘要：
  • 21. 光刻设备市场与技术现状
    作者： 童志义
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  3-6
    摘要：
  • 22. 采用双扫描平台技术的ArF浸液式光刻
    作者： Bob Streefkerk Jan Mulkens Martin Hoogendorp 童志义
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  7-14
    摘要： 在193 nm光刻中,已证明水是一种适于浸液式光刻的液体.浸液式光刻提出了一种可将传统的光学光刻拓展到45 nm节点,甚至到32 nm节点的潜能.另外,利用现有的透镜,浸液式光刻的选择提出了...
  • 23. 0.18μm铜金属双重镶嵌工艺中空间成像套刻精度分析
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  15-21,72
    摘要： 由于空间成像套刻(Overlay)技术的预算随集成电路(IC)设计规范的紧缩而吃紧,因此,Overlay测量技术准确度的重要意义也随之提高.通过对后开发(After Develop DI)阶...
  • 24. X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究
    作者： 刘业异 叶甜春 王德强 胡松 谢常青 陈大鹏
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  22-25,32
    摘要： 作为微细加工技术之一的高分辨率光刻技术--同步辐射X射线光刻(XRL)可应用于100nm及100nm节点以下分辨率光刻,高精度对准技术对XRL至关重要,直接影响到后续器件的生产质量.目前国内...
  • 25. 纳米压印光刻模版制作技术
    作者： 范东升 谢常青 陈大鹏
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  26-32
    摘要： 在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术.纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中.同时,纳米...
  • 26. 基于低能电子束的光刻技术
    作者： 宋会英 张玉林 魏强
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  33-36
    摘要： 讨论了聚焦电子束曝光中的邻近效应问题,阐述了扫描隧道显微镜的原理和工作方式.把扫描隧道显微技术用于低能电子束的光刻,不仅能提高图形的分辨率,而且使电子束加工工艺不再局限于真空环境.对曝光电子...
  • 27. IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究
    作者： 吴纬国 赵建明 马万里
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  37-41
    摘要： 针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度,分析了影响光刻对准的各个主要因素,包括对准标记、工艺层、隔离技术等,提出了一些改善光刻对准效果的方法.
  • 28. 高斯电子束曝光系统
    作者： 刘明 叶甜春 杨清华 陈大鹏
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  42-45
    摘要： 电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段,在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色.虽然现在最先进的电子束聚焦技术可以得到几个纳米的电子束斑,但是由于邻近效应问题,依然...
  • 29. 国际要闻
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  46-47
    摘要：
  • 30. 国内要闻
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  47-51
    摘要：

电子工业专用设备基本信息

刊名 电子工业专用设备 主编 赵璋
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第四十五研究所  主管单位 中国电子科技集团
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1004-4507 CN 62-1077/TN
邮编 100029 电子邮箱 faith＿epe@sohu.net
电话 010-64443110，64655251 网址 www.chinaepe.com.cn
地址 北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室

电子工业专用设备评价信息

期刊荣誉
1. 2001~2002年度标准化规范化部级奖
2. 获2003~2004年度出版质量部级奖

电子工业专用设备统计分析

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