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微细加工技术期刊
出版文献量（篇）
672
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4940

微细加工技术

Microfabrication Technology

CSTPCD

《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位：
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉：
国家一级检索刊物用刊  美国工程信息公司Ei数据库收录 
ISSN：
1003-8213
CN：
43-1140/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
地址：
湖南省长沙市
出版文献量（篇）
672
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2
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4940
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  • 1. 软X射线多层膜光栅
    作者： 张立超 曹健林 曹召良
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  1-7
    摘要： 详细介绍了软X射线多层膜光栅的国内外发展概况和广阔的应用领域,全面分析了它的制作工艺,并指出制作多层膜光栅的关键技术及解决方案.
  • 2. 基于DSP新型图形发生器模数转换器的设计
    作者： 方光荣 薛虹 袁修鹏
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  8-10,16
    摘要： 介绍了一种电子束曝光机图形发生器模数转换器的设计方案,该设计方案以ADI公司的模数转换芯片AD9223为核心,根据电子束曝光机背散射信号的特点,设计了合理的前端放大器和驱动电路及基准源.这样...
  • 3. 基于DSP图形发生器曝光算法的研究
    作者： 张今朝 杨浩伟 薛虹
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  11-16
    摘要： 新型图形发生器使用DSP控制曝光过程,因此要求DSP程序高效地控制电子束实现图形的高精度扫描.而以往的算法(包括Bresenham算法)无法满足电子束扫描的特殊性,因此提出一种DSP实现曝光...
  • 4. X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究
    作者： 刘业异 叶甜春 王德强 胡松 谢常青
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  17-22
    摘要： 针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证.采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的数据,然后再进行数据分析,得出LAPLAC算子在识别精度和对准精度两...
  • 5. 反应离子束刻蚀应用于光刻胶灰化技术研究
    作者： 付绍军 刘颖 徐向东 洪义麟 王旭迪
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  23-26
    摘要： 以AZ1500光刻胶为例,将氧气作为工作气体的反应离子束刻蚀工艺用于光刻胶图形的灰化处理,以去除经紫外曝光-显影后光栅中的残余光刻胶.研究结果表明灰化速率有随束流密度呈线性增加的趋势.经过反...
  • 6. 飞秒激光双光子复杂结构的微细加工
    作者： 夏安东 徐藻 王翔 蒋中伟 袁大军 褚家如 郭锐 黄文浩
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  27-30,36
    摘要： 阐述了双光子激发的原理和飞秒激光三维加工的技术特点.利用自行研制的飞秒双光子微细加工系统,在优化工艺参数的基础上,加工出一系列三维微结构,并实现了可动的三维微系统-齿轮轴系统的一次成型.
  • 7. 双光子三维微细加工的分辨率研究
    作者： 夏安东 徐藻 王翔 蒋中伟 袁大军 郭锐 黄文浩
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  31-36
    摘要： 为了改善双光子加工的成型精度和微器件的质量,提高加工系统的分辨率是十分重要的.根据自由基类光聚合材料双光子加工分辨率的理论分析,提出等光强面概念,并在此基础上讨论了激发光强与系统加工分辨率之...
  • 8. Si基ZnO/Ga2O3氨化反应制备GaN薄膜
    作者： 庄惠照 王书运 董志华 薛成山 高海永
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  37-41
    摘要： 利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,接着溅射Ga2O3薄膜,然后ZnO/Ga2O3膜在开管炉中850 ℃常压下通氨气进行氨化,反应自组装生成GaN薄膜.XRD测量结果...
  • 9. 含铝的富硅二氧化硅薄膜的发光特性及结构
    作者： 严勇健 吴雪梅 成珏飞 李群 诸葛兰剑
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  42-46
    摘要： 采用双离子束共溅射技术制备出掺铝的富硅二氧化硅复合薄膜(AlSiO),采用荧光分光光度计对样品进行PL测试表明:AlSiO复合膜共有三个发光峰,分别在370 nm、410 nm、510 nm...
  • 10. TiN基磁性薄膜的研究
    作者： 任妙娟 季刚 宋红强 张云鹏 陈延学
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  47-50
    摘要： 用射频磁控溅射技术制备了TiN掺Co的薄膜样品.400 ℃真空退火后,振动样品磁强计测量(VSM)表明,样品在室温下具有显著的铁磁性.其饱和磁化强度为2.93×108 A/m,饱和磁场强度约...
  • 11. 双离子束溅射制备SiNx薄膜的光致发光性质
    作者： 吴雪梅 成珏飞 诸葛兰剑
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  51-54
    摘要： 采用双离子束溅射法制备了SiNx薄膜,用XRD、XPS、FTIR等对薄膜的结构进行了表征,并且分析了样品的光致发光(PL)特性.发现在225 nm的紫外光激发下,样品在室温下可发射高强度的可...
  • 12. 微细电火花加工装置的设计与应用
    作者： 张勇 王振龙 胡富强 赵万生
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  55-59,65
    摘要： 设计开发了一台用于微细电火花加工的微细加工装置,它主要由以下几个部分组成:花岗岩基座、精密伺服机构、精密高速旋转主轴、线电极磨削装置、微细电火花加工用的RC脉冲电源、加工状态检测系统和控制系...
  • 13. 硅基片微型通孔加工技术
    作者： 徐藻 褚家如 赵钢
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  60-65
    摘要： 介绍了硅基片微型通孔的用途及在微机电系统发展中的重要性,从原理、过程、优缺点等方面详细叙述了激光打孔法、湿法刻蚀法、深度反应离子刻蚀法(DRIE)和光辅助电化学刻蚀法(PAECE)等四种硅基...
  • 14. 石英音叉微细加工若干问题探讨
    作者： 唐琼 孙雨南 崔芳 廖兴才
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  66-71
    摘要： 采用基于半导体工艺的光刻、化学腐蚀等微细加工方法在石英晶体基片上批量制作石英音叉.化学腐蚀石英音叉时,叉指的一个侧面中央有棱角,腐蚀速率先慢后快有利于棱角的消除,但去掉棱角的主要方法是增加腐...
  • 15. 磁悬浮系统动力学参数的开环辨识
    作者： 施建 李黎川
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  72-76
    摘要： 针对磁悬浮系统的本质非线性,提出了基于试验研究的一种实用的动力学模型开环辨识方法,它能在完全不知系统物理参数的前提下,较好地辨识磁悬浮系统的动力学方程中的参数,据此设计的控制器可以对磁悬浮系...
  • 16. 一种硅衬底镂空结构的圆形射频微电感
    作者： 周勇 戴旭涵 王西宁 蔡炳初 赵小林
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年2期
    页码:  77-80
    摘要： 利用MEMS工艺以及硅的湿法刻蚀工艺制作了一种硅衬底镂空结构的圆形射频微电感,并研究了硅衬底背面减薄对射频微电感性能的影响,结果表明:微电感硅衬底经过局部刻蚀减薄后其自谐振频率上升,电感量的...

微细加工技术基本信息

刊名 微细加工技术 主编
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第48研究所  主管单位
出版周期 双月刊 语种
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ISSN 1003-8213 CN 43-1140/TN
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