真空期刊
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真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
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  • 作者: 师立侠 洪晓鹏 钟亮 闫荣鑫
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  1-3
    摘要: 依据航天器氦质谱真空容器总漏率检测原理,讨论了检漏仪和真空容器直接相连、同真空容器主真空泵并联、在前级泵和主真空泵间等连接方式,逐项研究了总漏率测试的最小可检漏率、反应时间,分析各种连接方式...
  • 作者: 张晓曦 王丽红 邱家稳 陈联
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  4-7
    摘要: 介绍了采用小型真空质谱计进行载人航天器密封舱内多组分微量有害气体的检测方法.通过测量微量气体浓度,实现密封舱内多种微量有害气体在线监测.给出了甲苯、二甲苯、二氯甲烷、甲烷、丙酮等5种气体的相...
  • 作者: 孙冬花 李棉峰 葛瑞宏 陈光奇 陈联 黄宏
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  8-11
    摘要: 漏率指标是评价大型低温容器产品质量的主要技术指标之一,准确定量漏率值是产品绝热性、可靠性和安全性的重要保证.本文详述了大型低温容器检漏系统的配置、检漏系统最小可检漏率的估算、反应时间确定,并...
  • 作者: 冯焱 卢耀文 孙雯君 张涤新 成永军 盛学民 赵澜
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  12-15
    摘要: 本文介绍了球锥形转换器型方向规的工作原理、结构及性能参数,具有结构简单、方向性高、反应速度快、转换效果好等特点,并通过实验对其性能参数进行了测试,其方向性角为15°,动力学时间常数为5 ms...
  • 作者: 周旭 王双 章其初 苗建朋 郭帅 陈革
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  16-19
    摘要: 研制了一台全玻璃真空集热管真空品质试验装置,采用集热管内置加热器,恒温加热至350℃持续48 h,测量集热管尾管处吸气剂镜面消失率.同时该装置还可测量集热管恒温加热功率随烘烤时间变化数据,即...
  • 作者: 孙伟 邵容平 闫荣鑫 韩琰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  20-24
    摘要: 研究气体通过漏孔的泄漏过程,建立气体在稀薄领域里的统一流动模型,可以避免对流态判断的困难,方便工程应用.气体稀薄流域的统一模型适用于从粘滞流到分子流的全部流态的数学模型.从N-S方程出发,利...
  • 作者: 孙乃峰 徐灵飞 李建 柳建 王世庆 王坤
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  25-28
    摘要: 由单极驱动的表面波等离子体(Surface-wave-sustained plasma,SWP)是近年发展起来的一种低气压、高密度等离子体,这种技术非常适用于等离子体天线等领域.本文介绍了一...
  • 作者: 包生祥 史光华 张德政 李鹏
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  29-31
    摘要: 针对行波管用阴极表面异常的黑斑现象,利用扫描电镜( SEM)和X射线能谱仪(EDS)对阴极的不同微区进行了对比分析,查找黑斑产生的原因,并对其对阴极发射性能造成的影响进行了探讨.结果表明,行...
  • 作者: 何翔 孙奉娄 门智新
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  32-34
    摘要: 使用紫外可见分光光度计测最光学薄膜,获得透过率图谱或者反射、吸收谱,利用薄膜上下表面光的于涉原理,通过简单计算,就可以方便快捷地估算出薄膜厚度.用磁控溅射法制备了ITO薄膜,使用该干涉法和台...
  • 作者: 刘喜海 刘景远 单丹阳 徐成海
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  35-38
    摘要: 真空电渣重熔具有脱氧性能好,防止金属氧化等许多优异的冶金特性.本文通过对真空电渣重熔与普通电渣重熔、气体保护熔炼和真空电弧熔炼等冶金特性的分析对比,找出真空电渣重熔的冶金特性,表明发展真空电...
  • 作者: 姜宏伟 杨勇军 胡银刚 邱秀金
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  39-41
    摘要: 本文分析了几种真空烧结炉常见的报警量,并给出了工程解决方案.在真空炉控制系统中合理利用报警量,可以有效提高人员和设备的安全性.
  • 作者: 孙猛 徐法俭 赵彩霞 韩飞
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  42-44
    摘要: 阐述了焦炉煤气净化中真空碳酸盐法脱硫脱氰的工艺流程,介绍了在脱硫脱氰工艺中水环式真空泵的选型及真空系统的工程化设计,分析了水环式真空泵在该行业中的应用优势和推广前景.
  • 作者: 寥旭东 杨丹 王定贤 白国云
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  45-47
    摘要: 分析讨论了长管路抽真空的特点及影响管路真空度的主要因素.根据相关真空理论,推导得出了长管路极限真空计算公式.结合一真空工程,对该理论公式进行了实验验证.结果表明,理论计算值和实验测量值比较接...
  • 作者: XU Cheng-hai 栾祥
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  48-51
    摘要: 本文以变压器干燥为例,简要描述了在变压器真空干燥过程中的方法,并进一步阐述了“循环压力法”对变压器进行真空干燥处理的原理、所需的设备及真空干燥真正结束的判断依据和判断方法.“循环压力法”真空...
  • 作者: 王远 程焰林 罗先君 马明旺 马迎英
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  52-54
    摘要: 本文通过对真空器件排气玻璃封接工作中所见玻璃不透明现象的分析,结合反复工艺试验和相关资料,逐一提出了具体有效的解决方法、规避手段或减少(小)措施.通过高倍光学显微镜对比分析改进前后的封接效果...
  • 作者: 孙丽丽 张栋 汪爱英
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  55-57
    摘要: 本文采用直流反应磁控溅射技术,以Ar和N2为反应前驱气体制备了TiN功能装饰薄膜.重点研究了衬底负偏压对沉积TiN薄膜的色泽、性能及微结构的影响.采用台阶轮廓仪、X射线衍射仪、EDS能谱仪、...
  • 作者: 刘辛 徐斌 邹寅峰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  58-60
    摘要: 通过对真空溅镀生产线靶材的刻蚀情况观测,发现所有产线均存在不同程度的靶面刻蚀不均现象,而3号线尤为突出,其端部刻蚀深度相对于其它部位刻蚀深度较深,导致靶材使用寿命短,利用率低.采用高磁导率材...
  • 作者: 孙爱祥 张馨元 栾道成 葛高峰 赵广彬
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  61-63
    摘要: 采用非平衡磁控溅射技术在硬质合金基体上制备了TiAlN薄膜.在400℃-800℃对试样进行氧化实验,利用XRD,SEM,精密电子天平等对TiAlN薄膜的物相、断口组织形貌以及氧化增重结果进行...
  • 作者: 史新伟 姚宁 安子凤 宋开兰 张水 王新昌
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  64-67
    摘要: 纳米金刚石薄膜具有优异的性能,已在多个领域获得广泛应用.但微波等离子体化学气相沉积制备的金刚石薄膜质量却严重受沉积工艺的影响,为了深入了解沉积工艺对制备的金刚石薄膜质量的影响,本文详细研究了...
  • 作者: 姚素英 徐文慧 王光伟 马兴兵
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  68-70
    摘要: 采用直流离子束溅射法,在n型单晶硅衬底上淀积Si1-xGex薄膜.俄歇电子谱(AES)测得Si1-xGex薄膜的Ge含量约为0.15.对薄膜进行高温磷扩散后,经XRD测试为多晶态,即得n-p...
  • 作者: 丁艳丽 谷锦华
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  71-73
    摘要: 本文采用VHF-PECVD技术制备了系列硅薄膜,通过椭圆偏振技术及拉曼测试手段研究了p型微晶硅层对本征微晶硅薄膜结构特性的影响.实验结果表明:在薄膜生长初期,与玻璃衬底上生长的本征微晶硅薄膜...
  • 作者: 付东辉 刘艳凤 姜宏伟 尹龙承 彭鸿雁 胡威
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  74-77
    摘要: 围绕纳米金刚石膜生长的二次形核理论,利用直流热阴极PCVD技术,在微晶金刚石膜连续生长模式常用的一些生长条件下,通过改变工作气压,改变生长温度,同时采取人工干预间歇生长模式进行金刚石膜生长实...
  • 作者: 夏雨 梁齐 粱金
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  78-81
    摘要: 用脉冲激光沉积法分别在不同电阻率的p型和n型Si( 100)衬底上制备了不掺杂ZnO薄膜,相应制成n-ZnO/p-Si和n-ZnO/n-Si异质结器件.利用X射线衍射和原子力显微镜对ZnO薄...
  • 作者: 安会静 山秀文 李广 杨瑞霞 薛俊明 雷青松
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  82-85
    摘要: 利用中频脉冲直流磁控溅射法制备了平面ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜,研究了沉积压力、衬底温度和溅射功率对AZO薄膜光电性能、薄膜稳定性的影响.结果表明:在较低沉积压力、衬底温度及溅射功率...
  • 作者: 焦晓静 苏党帅 韩锋
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  86-90
    摘要: 抑制射频真空系统表面二次电子倍增的一种常用方法是在系统内表面镀TiN薄膜,因为TiN薄膜具有较低的二次电子发射率.但对于真空应用来说,必须关注TiN薄膜的真空释气率问题.本文综述了国内外在T...
  • 作者: 姜兆炎 姜宏伟 尹龙承 彭鸿雁
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  91-94
    摘要: 采用直流热阴极PCVD方法,以B(OCH3)3作为硼源,通过改变氩气与氢气流量比,在p型Si衬底上沉积了硼掺杂纳米金刚石膜.研究了不同氩气与氢气流最比对掺硼金刚石膜生长的影响.采用扫描电子显...
  • 作者: 张以忱
    刊名: 真空
    发表期刊: 2011年5期
    页码:  95-96
    摘要:

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

真空评价信息

期刊荣誉
1. 中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
2. 工程技术类核心期刊

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