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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
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3
总被引数（次）
19905
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  • 1. 脉冲偏压对电弧离子镀TiNbN硬质薄膜相结构的影响
    作者： 林国强 肖微 董闯 赵彦辉 闻立时
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  319-322
    摘要： 用电弧离子镀设备,在其他工艺参数相同的条件下,通过仅改变脉冲偏压幅值的方法分别沉积TiNbN硬质薄膜,考察脉冲偏压对薄膜相结构的影响.结果表明,TiNbN硬质薄膜的相结构随脉冲偏压幅值的变化...
  • 2. PDP单元寻址期放电特性的研究
    作者： 屠彦 崔伟 郑姚生
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  323-327,343
    摘要： 本文基于帕邢定律,采用数值模拟的方法,计算了放电单元内,沿不同放电路径着火电压的分布情况.结合流体模型,研究了寻址期ACCPDP中X电极偏压,对寻址放电以及壁电荷积累的影响.模拟结果表明,寻...
  • 3. 氮离子注入法合成CNx膜的化学键表征
    作者： 曹培江 朱德亮 潘跃武 马晓翠
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  328-330,354
    摘要： 采用N离子注入金刚石膜和热解石墨方法合成了CNx膜,用Raman光谱和XPS谱对合成薄膜中C、N的化学键合状态进行了研究.通过与Raman光谱的比较,我们对合成样品XPS谱中N1s的化学键合...
  • 4. 彩色CRT偏转误差及测量方法的研究
    作者： 李晓华 杨晓伟 陈福朝
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  331-334
    摘要： 彩色CRT的偏转误差主要包括会聚误差和光栅误差,测量会聚误差和光栅误差是验证偏转线圈偏转特性的重要手段.会聚误差取决于R/G/B三束在屏上相互之间的距离量,而G束形状则决定了屏上光栅的误差量...
  • 5. CeF3掺杂增强纳米晶Si光致发光强度的研究
    作者： 方应翠 章壮健 解志强 赵有源 陆明
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  335-338,366
    摘要： 真空蒸发SiO粉末,在Si(100)基体上制备SiOx薄膜,后续氮气中1100 ℃退火制备镶嵌在SiO2基体中的纳米晶Si体系(nc-Si/SiO2),然后将该样品放入真空室,在其上沉积Ce...
  • 6. 薄膜生长过程中孔洞填充的蒙特卡罗模拟
    作者： 刘祖黎 姚凯伦 张雪锋 魏合林 黄运米
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  339-343
    摘要： 在一般的材料生长过程中,由于某些实验参数控制不当,比如生长过程中过高的沉积速率会导致局部的材料中出现孔洞,这种孔洞严重影响了薄膜材料的性能.本文以铜薄膜为例,利用动力学晶格蒙特卡罗方法,模拟...
  • 7. 氧环境扫描电子显微分析:消除绝缘材料荷电效应的新方法
    作者： 吉元 张虹 张隐奇 徐学东 权雪玲 郭汉生
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  344-349
    摘要： 在环境扫描电镜(ESEM)中注入氧气,减少和消除绝缘样品表面在电子束辐照下产生的荷电效应.二次电子像的观察显示,在压力为130Pa～600Pa的ESEM中,氧气对Al2O3、Al(OH)3等...
  • 8. 溅射靶功率对氮化碳薄膜结构的影响
    作者： 丁万煜 徐军 朴勇 王德和 董闯 邓新绿 高鹏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  350-354
    摘要： 利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术,在Si(100)上制备氮化碳薄膜,并对薄膜进行了拉曼(Raman)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子谱(XPS)等结构的表征.发现溅...
  • 9. 低介电常数a-C:F薄膜结构和热稳定性研究
    作者： 吴振宇 杨银堂 汪家友
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  355-357,377
    摘要： 采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积的方法以C4F8和CH4为源气体制备了非晶氟化碳(a-C:F)薄膜.采用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和X光电子能谱(XPS)技术分析了a-C:F薄膜化学...
  • 10. SiO2/Si(111)表面Ge量子点的生长研究
    作者： 刘金锋 徐彭寿 潘海滨 王科范 盛斌 韦世强
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  358-361,366
    摘要： Si衬底用化学方法清洗后,表面大约残余1.0 nm厚SiO2薄膜.利用原子力显微镜(AFM)和反射高能电子衍射(RHEED)来研究温度和Ge蒸发厚度对在SiO2薄膜表面生长的Ge量子点的影响...
  • 11. 毫米级长定向碳纤维阵列的制备
    作者： 彭宇才 陈清
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  362-366
    摘要： 本文通过在固体二茂铁前驱体中添加少量硫粉,利用浮动催化化学气相沉积法制得了高纯度,直径和长度均一、且笔直定向、长达数毫米的碳纤维阵列.研究了反应温度和硫在碳纤维形成过程中的作用.用扫描电子显...
  • 12. 轨道分子屏极高真空系统的抽气方程
    作者： 杨亚天 达道安 阎少光
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  367-371
    摘要： 地面真空系统中,气体处于封闭的真空容器内,达到平衡状态时,真空系统的抽气方程式是:P=Q/S;轨道分子屏系统是开放的,或者说具有部分真空容器,相应的抽气方程应该是怎样的形式呢?本文提出了一个...
  • 13. 磁控溅射铁磁性靶材的研究进展
    作者： 周永江 唐耿平 李效东 杨长胜 楚增勇 程海峰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  372-377
    摘要： 磁控溅射铁磁性材料是制备高性能磁性薄膜的主要方法.由于铁磁性靶材的磁屏蔽效应,实现磁控溅射较难,这是限制铁磁性材料镀膜的一个重要因素.本文综述了国内外对这一问题的各种解决方法,分析了其优缺点...
  • 14. MoS2/Ti复合膜的摩擦磨损研究
    作者： Kin Sunkyu 李永良
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  378-380
    摘要： 采用直流磁控溅射方法在SKD-11钢的表面沉积一层MoS2/Ti复合膜,选择沉积厚度为1 μm和2 μm的复合膜进行摩擦磨损实验,结果表明,MoS2/Ti复合膜为纳米复合膜,能大大降低钢表面...
  • 15. 钼基体上真空等离子体喷涂钨涂层的研究
    作者： 代明江 刘敏 周克崧 熊国刚 邓畅光 邝子奇
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  381-384
    摘要： 采用真空等离子体喷涂(VPS)技术制备出厚度超过0.8 mm的金属钨涂层,并对涂层进行了高温热处理.结果显示:金属钨涂层主要呈层状结构,其密度可达到理论密度的98%以上;工艺参数对喷涂涂层性...
  • 16. C/W多层膜的制备及其光学特性
    作者： 吴文娟 张众 张淑敏 王占山 王洪昌 王风丽 秦树基 陈玲燕
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  385-387
    摘要： 介绍了软X射线波段C/W多层膜的制备和光学性能检测.采用高真空直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制作了C/W多层膜,用X射线衍射(XRD)仪,小角测量方法测试多层膜的光学性能,采用透射电镜(T...
  • 17. 本征微晶硅材料及其在电池中的应用
    作者： 孙建 张晓丹 朱锋 熊绍珍 耿新华 赵颖 高艳涛 魏长春
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  388-390,395
    摘要： 采用VHF-PECVD技术制备了系列不同硅烷浓度和功率的微晶硅薄膜.材料的电学特性和结构特性测试结果表明:制备出了符合太阳电池用的本征微晶硅薄膜.材料应用于电池中,制备出了效率达6.6%的微...
  • 18. 氧流量和热处理温度对锡酸锌薄膜结构的影响
    作者： 庄大明 张弓 李秋芳 杨波
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  391-395
    摘要： 本文采用锌锡质量比为52:48的Zn-Sn合金靶,利用中频交流反应磁控溅射方法,制备了锡酸锌(Zn2SnO4)晶体薄膜.考察比较了氧流量和热处理温度对锌锡合金氧化物薄膜晶体结构的影响,确定了...
  • 19. 进气口导流叶列对M型分子/增压泵抽速的影响
    作者： 储继国 王雅婷 褚珍珍 陈列东 龚建华
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年5期
    页码:  396-400
    摘要： 分子/增压泵抽气槽的入口流导是限制抽速的主要原因.抽气槽进气口增设一组百叶窗式导流叶列,可以显著减少入口流导的影响,大幅度提高抽气槽的抽速.本文分析了导流叶列的工作机理,提出了叶列参数优化方...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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